DP4 — Rail de positionnement macro à deux étages

Rail de positionnement macro à deux étages DP4 — vue d’ensemble

Le DP4 associe une platine micrométrique à courte course à un rail à vis plus long pour la macrophotographie. Utilisez le rail inférieur pour établir la distance de prise de vue, puis effectuez de plus petits pas de focus stacking avec la platine supérieure.

Platine micrométrique supérieure

La platine supérieure offre une course de 25 mm. Sa commande micrométrique centrale avance de 0,5 mm par tour, avec un déplacement de 0,01 mm par graduation. Deux tours produisent un déplacement de 1 mm. Les graduations constituent une référence de positionnement manuel, et non une exactitude de positionnement mesurée.

Rail de positionnement macro à deux étages DP4 — détails et exemple de configuration

Rail de positionnement inférieur

L’étage inférieur offre une course de 120 mm au moyen d’une vis trapézoïdale à avance de 4 mm par tour. La commande moletée à deux diamètres propose deux prises en main pour le même entraînement ; elle ne modifie pas le rapport de transmission mécanique.

Rail de positionnement macro à deux étages DP4 — détails et exemple de configuration

Construction et fixation

Le corps principal est en alliage d’aluminium, avec des composants d’entraînement en acier inoxydable et en cuivre. L’étau supérieur compatible Arca peut être retiré et remonté à 90°, fixé par quatre vis M4 en acier inoxydable. L’interface inférieure de type Arca se monte sur les rotules compatibles, et trois trous filetés 1/4-20 offrent d’autres positions de fixation de la base.

Rail de positionnement macro à deux étages DP4 — détails et exemple de configuration

Caractéristiques

Course supérieure25 mm
Course inférieure120 mm
Avance de la commande micrométrique supérieure0,5 mm par tour
Déplacement par graduation supérieure0,01 mm par graduation
Vis de déplacement inférieure4 mm par tour
Dimensions216 × 83 × 68 mm
Poids660 g
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